聚脲材料以其優(yōu)異的耐磨性、耐腐蝕性和快速固化等特性，在防水、防腐、防護(hù)涂層等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。然而，在實際施工后，有時會出現(xiàn)局部剝離的情況，這不僅影響涂層的美觀，更會削弱其防護(hù)性能，甚至可能引發(fā)更嚴(yán)重的質(zhì)量問題。深入探究局部剝離的原因，并掌握有效的修復(fù)方法，是保障聚脲涂層工程質(zhì)量的關(guān)鍵。

一、局部剝離的可能原因

（一）表面處理不當(dāng)

聚脲涂層與基材的附著力是確保涂層不剝離的基礎(chǔ)，而表面處理質(zhì)量對附著力有著決定性影響。若基材表面存在油污、銹跡、灰塵等雜質(zhì)，聚脲材料無法與基材緊密結(jié)合，容易導(dǎo)致剝離。例如，在金屬基材施工前，未通過噴砂或拋丸工藝徹底清除表面氧化皮，殘留的氧化皮會成為聚脲與金屬之間的隔離層，隨著時間推移，涂層在外界因素作用下逐漸剝離。此外，混凝土基材表面若未進(jìn)行充分的打磨和清潔，殘留的脫模劑、疏松層等也會影響涂層附著力，造成局部剝離。

（二）施工環(huán)境不適宜

施工環(huán)境的溫度、濕度等條件對聚脲施工質(zhì)量影響顯著。聚脲材料對施工溫度有一定要求，通常適宜在 10℃ - 35℃的環(huán)境下施工。當(dāng)溫度過低時，聚脲材料的反應(yīng)活性降低，固化速度變慢，甚至可能無法完全固化，導(dǎo)致涂層與基材之間的粘結(jié)力不足，從而出現(xiàn)剝離現(xiàn)象。濕度方面，若環(huán)境濕度大于 85%，基材表面容易凝結(jié)水汽，聚脲涂層固化過程中與水汽發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生氣泡、針孔等缺陷，這些缺陷會逐漸發(fā)展，最終引發(fā)局部剝離。

（三）施工工藝問題

噴涂過程中的參數(shù)控制和操作規(guī)范也與局部剝離密切相關(guān)。噴涂壓力不足會導(dǎo)致聚脲材料無法充分霧化，涂層表面不平整，與基材的接觸面積減小，附著力下降；噴涂速度過快，則可能使涂層厚度不均勻，局部過薄的區(qū)域容易因受力不均而剝離。此外，多層噴涂時，若間隔時間過長，底層涂層已經(jīng)完全固化，表面變得光滑，新噴涂的涂層與底層之間的粘結(jié)力減弱，也會出現(xiàn)分層剝離的情況。

（四）材料質(zhì)量與配比問題

聚脲材料自身的質(zhì)量以及 A、B 組分的配比是否準(zhǔn)確，直接關(guān)系到涂層的性能。劣質(zhì)的聚脲材料可能存在原料純度低、添加劑不合格等問題，導(dǎo)致涂層固化后性能不穩(wěn)定，容易出現(xiàn)剝離。而 A、B 組分的配比錯誤，會使材料無法充分反應(yīng)，固化后的涂層強(qiáng)度和粘結(jié)力達(dá)不到要求。例如，A 組分（異氰酸酯組分）比例過高，會導(dǎo)致涂層脆性增加，在外界應(yīng)力作用下容易開裂、剝離。

二、局部剝離的修復(fù)方法

（一）小面積剝離修復(fù)

對于小面積的局部剝離區(qū)域，首先使用工具將剝離的涂層及周邊 5 - 10 厘米范圍內(nèi)的涂層小心鏟除，露出干凈、堅實的基材表面。然后對該區(qū)域進(jìn)行重新打磨，確保表面粗糙度符合施工要求，并使用高壓空氣或吸塵器徹底清除碎屑和灰塵。按照正常的施工工藝，在處理后的區(qū)域噴涂底漆，待底漆干燥后，再進(jìn)行聚脲噴涂，噴涂時注意與周邊涂層的搭接，確保新涂層與舊涂層過渡自然，厚度均勻。

（二）大面積剝離修復(fù)

當(dāng)出現(xiàn)大面積剝離時，修復(fù)工作相對復(fù)雜。先將剝離的涂層全部清除，若基材表面存在損傷，需進(jìn)行相應(yīng)的修補(bǔ)處理，如金屬基材補(bǔ)焊、混凝土基材填補(bǔ)等。對整個修復(fù)區(qū)域進(jìn)行全面的表面處理，包括打磨、清潔、除油等工序，必要時可采用噴砂或拋丸工藝，以增強(qiáng)基材與涂層的附著力。重新噴涂底漆、聚脲涂層和面層漆，施工過程中嚴(yán)格控制施工環(huán)境和噴涂參數(shù)，確保各涂層之間的粘結(jié)牢固，厚度符合設(shè)計要求。修復(fù)完成后，對修復(fù)區(qū)域進(jìn)行重點檢查和養(yǎng)護(hù)，避免受到外力碰撞和環(huán)境侵蝕。

聚脲施工后局部剝離是多種因素共同作用的結(jié)果。通過對表面處理、施工環(huán)境、施工工藝和材料質(zhì)量等方面進(jìn)行嚴(yán)格把控，可以有效預(yù)防剝離問題的發(fā)生。一旦出現(xiàn)局部剝離，根據(jù)具體情況采取合適的修復(fù)方法，能夠及時恢復(fù)聚脲涂層的性能和防護(hù)效果，保障工程質(zhì)量。